支持實驗內(nèi)容：
（1）刻蝕設備的基本操作實驗
實驗目的：熟悉刻蝕設備的開機、清洗、溫濕度、換氣、夾具固定、腐蝕液、腐蝕時間等基本操作流程及注意事項。
（2）多種刻蝕圖形的設計實驗
實驗目的：利用光刻工藝設計好需要刻蝕的結(jié)構圖形，通過刻蝕工藝制備各類型硅刻蝕結(jié)構。基于光刻系統(tǒng)設計線條、形狀、倒角等圖形，通過刻蝕工藝了解各類硅孔結(jié)構制備工藝。
（3）不同晶型對刻蝕圖形的影響實驗
實驗目的：通過試驗不同晶型、不同襯底等參數(shù)，了解刻蝕工藝對刻蝕圖形的影響。
（4）不同介質(zhì)層對刻蝕工藝的影響實驗
實驗目的：通過試驗光刻膠、介質(zhì)膜、厚度等參數(shù)，了解不同介質(zhì)層對刻蝕圖形的影響。
（5）不同環(huán)境參數(shù)對刻蝕工藝的影響實驗
實驗目的：通過試驗不同溫度、濕度、時間等參數(shù)，了解不同環(huán)境參數(shù)對刻蝕圖形的影響。
（6）倒角結(jié)構對刻蝕圖形的影響實驗
實驗目的：通過設計三角、直角、異形等倒角結(jié)構參數(shù)，了解倒角結(jié)構對刻蝕圖形的影響。
刻蝕效果圖
聯(lián)系人通訊錄
蘇州工業(yè)園區(qū)仁愛路99號D115室
